Maskenmuster

  1. Die dazugehörige Maske besteht aus einer rund 150 Nanometer dünnen Membran aus Silicium-Nitrid, wobei das Maskenmuster durch 60 Nanometer starke Chrom-Wolfram-Schichten generiert wird, die die Elektronenstrahlen streuen. ( Quelle: DIE WELT 2000)